인듐 금속(In)-회전식 스퍼터링 타겟

특성

스퍼터링 타겟 재료는 패널 디스플레이, 반도체 및 자기 기록 박막 태양 에너지 분야에서 주로 사용되는 스퍼터링 방법에 의해 증착 된 박막의 원료입니다.

인듐 회전 표적의 순도는 4N5 일 수 있습니다.

애플리케이션

마이크로 일렉트로닉 필드, 평면 디스플레이 및 저장에 사용되는 거대한 자기 저항 박막 재료의 일종입니다.

indium_msds.pdf.