사마륨 루이드 (CeF3) - 초본 표적

펑키생산 전문고품질 스퍼터링 대상, 세라믹 타겟, 금속 대상. 제품은 다양한 방법 (마그네트론 스퍼터링, 진공 도금 등)에 의한 다양한 진공 코팅의 다양한 분야에 적용됩니다 (과학 연구, 항공 우주, 자동차, 마이크로 일렉트로닉스, 집적 회로 산업, 광원, 광학, 장식, 평면 패널 디스플레이 산업, 정보 스토리지 산업, 데이터 저장소 등.

1. 금속 대상

니켈 표적, 티타늄 표적, 아연 표적, 크롬 타겟, 마그네슘 표적, 니오브 표적, 주석 표적, 알루미늄 표적, 인듐 표적, 철 표적, 지르코늄 표적, 실리콘 표적, 구리 표적, 탄탈륨 표적, 게르마늄 표적, 실버 표적, 금 표적 , Gadolinium 표적, 란탄 표적, 이트륨 표적, 세륨 표적, 하프늄 표적, 몰리브덴 표적, 텅스텐 표적, 스테인레스 스틸 표적, 지르코늄 알루미늄 표적, 니켈 철 표적, 티타늄 알루미늄 표적, 니켈 크롬 표적, 구리 인듐 갈륨 셀레늄 표적, 알루미늄 실리콘 표적, 아연 알리 미움 표적 등

2. 세라믹 소재 목표

ITO 표적, 아조 타겟, IGZO 타겟, 산화 마그네슘 타겟, 산화물 표적, 산화철 타겟, 산화 니켈 타겟, 산화 식 산화물 표적, 아연 황화 아연, 산화 아연, 황화물 표적, 몰리브덴 황화물 표적, 실리콘 이산화물 표적, 실리콘 산화 세륨 표적, 산화 세륨 표적, 이산화 지르코드 표적, 니오브 펜톡 시드 표적, 이산화 티타늄 표적, 몰리브덴 디설파이드 표적, 하프늄 이산화물 표적, 티타늄 이시 늄 표적, 지르코늄 디 늄 표적, 텅스텐 타겟, 삼산화물 표적, 탄탈 펜톡 시드 표적, 탄탈륨 표적 , 이트륨 불화물 표적, 아연 셀레 나이드 타겟, 질화 알루미늄 표적, 질화 붕소 표적, 질화 붕소 표적, 실리콘 카바이드 표적, 리튬 니오브 타겟, 카바이드 타겟 타겟, 바륨 티타 네이트 타겟, 란탄 티타 네이트 표적 등

3. 합금 물질 타겟

티타늄 알루미늄 Ti-Al, 알루미늄 규산 알루미늄 Al-Si, 알루미늄 티타늄 Al-Ti, 실버 구리 Ag-Cu, 알루미늄 마그네슘 Al-Mg, 코발트 철 붕소 Co-Fe-B, 구리 인듐 갈륨 Cu-IN-GA, FerriManganic Fe -Mn, Inn-Sn, Sn, 코발트 철 공연, 니켈 코발트 Ni-Co, 니켈 철 Ni-Fe, 니켈 크롬 Ni-Cr, 니켈 지르코늄 Ni-Zr, 니켈 알루미늄 Ni-Al, 니켈 구리 Ni-Cu , 니켈 바나듐 Ni-V, 티타늄 텅스텐 Ti-W, 아연 알루미늄 Zn-Al, 알루미늄 티타늄 붕소 Al-Ti-B, 알루미늄 바나듐 Al-V, 알루미늄 스칸듐 Al-SC, 구리 주석 Cu-Sn, 지르코늄 알루미늄 Zr- 알, 붕소 철 등

CAS # : 12008-30-9.