지식의 골드 스퍼터링

금빛을 던질 수있는 능력 때문에 가장 아름답게 발광하고 귀중한 금속 중 하나이며, 에너지를 반영하고 변색에 저항합니다. PVD 또는 물리적 증기 증착 골드 스퍼터링은 시계 및 보석 산업에서 일반적으로 사용되기 쉽고 내구성이 뛰어나고 피부 나 옷과 일정한 접촉으로 일정한 접촉으로 문지르지 않을 것입니다. PVD 골드 스퍼터링은 또한 광섬유, 배터리 및 하이 엔드 수도꼭지 및 고정구를 코팅하기위한 우수한 전도성으로 인해 코팅 회로 패널 및 전자 부품에도 사용됩니다. 금 스퍼터링 공정은 전자 현미경 하에서 스캔 할 수 있도록 조직 샘플을 코팅하여 조직 샘플을 코팅하는 것과 같은 엑스레이 및 생명과 같은 방사선 피복 코팅으로 사용하는 생물 의학적 임플란트에 대해 매우 중요합니다.

골드 스퍼터링 코팅은 금 또는 금 합금이 금 진공 챔버에서 고 에너지 이온으로 폭격되면 금색 원자 또는 분자가 증기로 \"스퍼터링 된 \"을 낳고 코팅 할 기판상의 응축을 일으키는 진공 챔버에서 고 에너지 이온으로 포격됩니다. 보석, 회로 기판 또는 의료용 임플란트로. PVD 골드 스퍼터링은 가장 간단하고 비용이 적게 스퍼터링 장비 중 가장 간단하고 가장 비싼 유형의 DC 스퍼터링 공정으로 진행됩니다. 금은 전기 저항성 가열 요소로 저압 환경에서 증발되는 열 증발 증착으로 또는 전자빔이 전자 빔으로 가열되는 전자빔 증기 증착으로서 증발 된 열 증발 증착을 통해 일반적으로 얇은 필름 PVD 공정으로서도 일반적으로 적용됩니다. 높은 진공은 기판을 코팅 할 기판 상에 응축시킨다. 본 발명의 실시 예는 웨이퍼의 두께와 단계별 동작의 수 사이의 제 1 대응을 얻는 것을 포함하는 백 골드 스퍼터링 방법을 개시하고; 상기 제품 웨이퍼의 두께에 대응하는 동작의 수에 따라 상기 웨이퍼의 두께와 상기 스퍼터링 소자의 작동 전력과 상기 스퍼터링 장치의 두께와 상기 스퍼터링 장치의 작동 전력을 얻는 단계; 제 2 대응 및 스퍼터링 단계의 분할에 따르면, 제품 웨이퍼의 두께에 대응하는 작동 전력을 선택하고, 선택된 작동 전력으로, 뒷 골드 스퍼터링이 선택된 작동 전력에서, 금속 골재 수의 수 스퍼터링 공정의 결함은 공정 허용 범위 내에있는 것입니다. 스퍼터링 단계 후에, 스퍼터링 공정이 정지되고, 냉각수는 전체 스퍼터링 공정이 완료 될 때까지 스퍼터링 장비를 냉각 시키는데 사용된다.