화학 기상 증착 (CVD)이란 무엇입니까?

CVD의 주요 장점과 단점은 무엇입니까?

CVD.가열 된 고체 기판에 화학적으로 반응하고 고체 필름으로 코팅하기 위해 하나 이상의 가스를 사용합니다.

장점 :

1. 진공도 요구 사항은 높지 않으며, 핫 스프레이 코팅과 같은 진공이 필요하지 않습니다.

2. 빠른 증착 속도, 대기 CVD는 1μm / min에 도달 할 수 있습니다.

3. PVD와 비교하십시오. 화학적 조성물 또는 합금 코팅이 쉽게 달성하기가 더 쉽습니다.

4. 코팅의 조성물은 금속, 비금속, 반도체, 광전 재료, 다이아몬드 필름과 같은 다양 화되고;

5. 다공성 세라믹스로도 기판 코팅의 복잡한 형상 일 수있다;

6. 두께 균일 성이 양호하고 저전압 CVD는 동시에 수십 개의 칩을 도금 할 수 있습니다.

단점 :

1. 열역학 및 화학 반응 메커니즘은 쉽게 이해되거나 잘 이해되지 않습니다.

2. 고온에서 수행 될 필요가 있으며, 일부 기질은 견딜 수없고 코팅 효과를조차 할 수 없습니다.

3. 반응 가스는 부식성, 독성 또는 폭발성 일 수 있으므로 취급 할 때 조심하십시오.

4. 반응 생성물은 코팅에 남아 있고 불순물이 될 수 있습니다.

5. 기판의 차폐가 어렵습니다.