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뉴스

  • 03-11
    2022
    [뉴스] 반도체 재료의 응용 프로그램
    반도체 재료는 반도체 특성을 갖는 종류의 전자 재료이며 반도체 장치를 제조하는데 사용된다. 반도체 소재는 반도체 산업의 기초이며, 개발은 반도체 기술의 개발에 큰 영향을 미친다. 따라서 반도체 재료의 특성과 적용은 무엇입니까? 자세히보기 »
  • 03-10
    2022
    [뉴스] 적외선 칼 코겐화물 유리
    최근 몇 년 동안 칼 코겐화물 유리는 새로운 세대의 적외선 광학 렌즈 물질로 간주됩니다. 공통 적외선 광학 물질은 주로 ZnSe Crystal, Si 단결정, GE 단결정, 코리오닉 유리, 불화물 등을 포함합니다. Chalcogenide 유리는 성능이 우수한 적외선 광학 재료의 일종입니다. 자세히보기 »
  • 03-09
    2022
    [뉴스] 0 차원, 1 차원 및 2 차원 나노 물질이란 무엇인가?
    나노 물질은 그라 핀, 풀러렌 C60, 탄소 나노 튜브, 실버 나노 와이어, 이산화 규소 나노 와이어와 같은 적어도 하나의 치수 (길이 (X), 폭 (Y), 높이 (z) 0.1 내지 100 나노 미터 사이의 크기를 갖는 재료이다. , 몰리브덴 디설파이드 등 나노 물질은 0 차원, 1 차원 및 2 차원 나노 물질로 나뉩니다. 자세히보기 »
  • 03-08
    2022
    [뉴스] 마그네트론 스퍼터링 코팅 응용 프로그램 공통 분야에서
    마그네트론 스퍼터링 방법을 사용하여 금속, 반도체, 절연체 등 다양한 재료를 준비하는 데 사용할 수 있습니다. 간단한 장비, 쉬운 제어, 대형 코팅 면적, 강한 접착력 등의 장점이 있습니다. 일반 스퍼터링 방법의 장점 외에도 마그네트론 스퍼터링 개발뿐만 아니라 고속, 저온, 저해상도가 낮습니다. 자세히보기 »
  • 03-07
    2022
    [뉴스] 스퍼터링 대상이있는 이유는 무엇입니까?
    스퍼터링 타겟은 주로 집적 회로, 정보 저장, 액정 디스플레이, 레이저 메모리, 전자 제어 장치 등과 같은 전자 정보 산업에서 사용됩니다. 유리 코팅, 내마모성 재료, 고온 내식성, 고급 장식 제품 및 기타 산업. 본딩은 솔더로 백 타겟으로 타겟을 본딩하는 것을 말합니다. 자세히보기 »
  • 03-04
    2022
    [뉴스] 세라믹 타겟 - 3 가지 주요 요소가 그것의 속성에 영향을 미치는 것
    세라믹 표적의 순도는 스퍼터링 필름의 성능에 큰 영향을 미칩니다. 순도가 높을수록 스퍼터링 필름의 균일 성과 배치 제품의 품질이 우수합니다. 또한 고성능 세라믹 표적을 준비하기 위해서는 주로 성형 방법, 원료 크기, 소결 효과를 포함하여 이러한 요소를 제어해야합니다. 오늘날 세라믹 표적의 성능에 영향을 미치는 주요 요인을 분석하는 것입니다. 자세히보기 »
  • 03-03
    2022
    [뉴스] 알루미늄 질화물의 용도
    알루미늄 질화물은 높은 저항률, 높은 열전도율 (Al2O3의 8-10 회) 및 실리콘과 유사하게 낮은 팽창 계수를 가지며 고온 및 고전력 전자 장치에 이상적인 재료를 갖습니다. 일반적으로 사용되는 세라믹 기판 재료는 알루미나 세라믹 기판 열 전도성이 낮고 열팽창 계수 및 실리콘이 일치하지 않는 베릴륨 산화물, 알루미나, 질화 알루미늄 등입니다. 자세히보기 »
  • 03-02
    2022
    [뉴스] 크롬 산화물 분말이란 무엇입니까?
    금속 광택이있는 크롬 산화물 녹색, 육각형 또는 무정형 어두운 녹색 분말. 일반적으로 두 가지 음영으로옵니다 : 가벼운 올리브 녹색과 어두운 올리브 그린, 금속 색조가 있습니다. 상대 밀도 5.21, 융점 : 2266 ℃, 비등점 4000 ℃. 탁월한 내열성, 변색없이 온도 1000 ℃를 견딜 수 있습니다. 내산성, 알칼리성도 꽤 좋습니다. 고순도, 작은 입자 크기, 균일 한 분포, 크리스탈은 매우 어렵습니다. 자세히보기 »
  • 03-01
    2022
    [뉴스] 폴리싱의 산화 세륨
    산화 세륨 폴리싱 파우더 (VK-CE01) 폴리싱 파우더는 강한 절단 능력, 높은 연마 효율, 높은 연마 정확도, 좋은 연마 품질, 깨끗한 운영 환경, 작은 오염, 긴 수명 수명 등의 장점을 가지고 있습니다. 광학 정밀 연마 및 CMP 및 기타 분야의 중요한 역할. 자세히보기 »
  • 02-28
    2022
    [뉴스] PVD 스퍼터링 대상의 소개
    물리적 증기 증착 (PVD)은 표적의 표면을 가스 원자, 분자 또는 부분으로 물리적으로 증발시키는 박막 준비 기술이다. 특정 기능을 갖는 필름은 저압 가스 (또는 플라즈마)를 통해 기판의 표면에 증착된다. 물리적 증기 증착의 주요 방법은 진공 증발, 스퍼터링 증착, 아크 플라즈마 도금, 이온 도금 등을 포함한다. 자세히보기 »
  • 02-25
    2022
    [뉴스] 대상 - 반도체 제조 재료
    표적 재료는 고속 충전 된 입자에 의해 포격 된 타겟 재료, 다른 레이저 (이온 빔) 및 상이한 멤브레인 시스템을 통해 상이한 멤브레인 시스템을 통해 다른 멤브레인 시스템을 얻는 재료로, 전도 및 차단 기능을 달성하기 위해 상이한 표적 물질 상호 작용을 사용하는 재료이다. ...에 따라서 대상은 \"스퍼터링 타겟 \"라고도합니다. 그의 작동 원리는 이온 소스에 의해 생성 된 이온을 사용하여 진공 상태에서 수집하고 가속화하는 것입니다. 자세히보기 »
  • 02-24
    2022
    [뉴스] 삼원 재료
    리튬 배터리 용 일반적인 음극 물질은 주로 리튬 코발트 산 (LCA), 리튬 망간산 (LMO), 리튬 철 인산염 (LFP), 삼원 재료 (NCM / NCA) 등을 포함합니다. -NAFEO2 층 구조 (R-3M 공간 그룹)는 약 275 mAh / g의 이론적 인 용량을 갖는다. 자세히보기 »
  • 02-23
    2022
    [뉴스] 반도체 재료의 특성 및 용도
    반도체 재료는 반도체 특성을 갖는 종류의 전자 재료이며 반도체 장치를 제조하는데 사용된다. 반도체 소재는 반도체 산업의 기초이며, 개발은 반도체 기술의 개발에 큰 영향을 미친다. 따라서 반도체 재료의 특성과 적용은 무엇입니까? 자세히보기 »
  • 02-22
    2022
    [뉴스] 광학 크리스탈의 소개
    광학 결정은 광학 중매재에 사용되는 결정 재료의 일종이다. 자외선 및 적외선 응용 프로그램의 다양한 분야에서 창문, 렌즈 및 프리즘을 만드는 데 널리 사용됩니다. 결정 구조에 따르면 단결정 및 다결정으로 분할된다. 단결정 재료는 높은 수정 무결성 및 광 투과율뿐만 아니라 낮은 입력 손실을 가지므로 공통의 광학 결정이 단결정에 의해 지배된다. 자세히보기 »
  • 02-21
    2022
    [뉴스] 실리콘 카바이드 - 3 세대 반도체 재료
    수십 년 개발 후 반도체 재료, 실리콘 반도체 재료의 1 세대는 완벽한 결정에 가깝고 실리콘 재료 연구도 매우 철저합니다. 실리콘 재료를 기반으로하는 장치의 설계 및 개발은 많은 세대의 구조적 및 기술 최적화 및 업데이트를 거쳐 점차 실리콘 재료의 한계에 접근하고 있습니다. 자세히보기 »

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