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뉴스

  • 02-18
    2022
    [뉴스] 반도체 칩을위한 고순도 스퍼터링 타겟
    스퍼터링 타겟은 반도체의 수율을 결정하는 가장 중요한 요소입니다. 따라서 반도체 및 필요한 정밀도에 적용되며, 가장 높은 순도, 스퍼터링 타겟 재료의 순도 정도는 반도체의 성능에 직접적으로 영향을 미치고, 스퍼터링 대상 재료의 차이는 반도체 단락 회로를 일으켰다. 자세히보기 »
  • 02-17
    2022
    [뉴스] 코발트 파우더의 성능과 응용 프로그램
    1. 고밀도 자기 기록 재료는 높은 기록 밀도, 높은 보자력 (최대 119.4ka / m), 높은 신호 대 잡음비의 장점을 사용하여 테이프 및 대용량 하드 및 소프트 디스크의 성능을 크게 향상시킬 수 있습니다. 나노 코발트 분말의 우수한 산화성; 2. 철, 코발트, 니켈 및 탁월한 성능의 합금 분말 생산이있는 자성 유체는 봉인 충격 흡수, 소리 조절, 가벼운 디스플레이 등에 널리 사용될 수 있습니다. 자세히보기 »
  • 02-16
    2022
    [뉴스] 산화 아연의 응용
    산화 아연은 대형 밴드 갭 및 엑시톤 결합 에너지, 높은 투명성, 실온에서 우수한 발광 성능을 가지며, 액정 디스플레이, 박막 트랜지스터, 발광 다이오드 및 기타 제품의 반도체 분야에서 사용되었습니다. 또한, 종류의 나노 물질로서 마이크로 그라운 컬러 아연 산화물은 또한 관련 분야에서 역할을 시작하기 시작했습니다. 자세히보기 »
  • 02-15
    2022
    [뉴스] 탄탈륨 및 탄탈륨 합금의 고온 산화 방지 코팅
    탄탈륨 및 탄탈륨 합금은 높은 융점, 좋은 내식성, 우수한 고온 강도, 좋은 가공 성능, 용접성, 낮은 플라스틱 / 취성 전환 및 우수한 동적 기계적 특성의 장점을 가지고 있습니다. 그것은 전자 제품, 무기, 화학 산업, 항공 우주 산업 및 공간 원자력 발전 시스템 등에서 널리 사용됩니다. 1600 ℃ ~ 1 800 ℃에서 일하는 이상적인 구조 재료입니다. 자세히보기 »
  • 02-14
    2022
    [뉴스] 가벼운 마그네슘 - 산화물 분말
    가벼운 마그네슘 산화물은 매우 널리 사용되는 제품이며, 빛 마그네슘 산화 마그네슘의 생산 공정은 매우 환경 친화적이며, 광학 마그네슘 산화 마그네슘의보다 진보 된 국내 생산 공정은 일반적으로 다음과 같습니다 : 1. 빛 마그네슘 산화 마그네슘은 전통적인 로터리에서 하소됩니다. 주요 원료로서 수산화 마그네슘으로 소성 킬른; 자세히보기 »
  • 02-11
    2022
    [뉴스] 화학 기상 증착 (CVD)이란 무엇입니까?
    CVD의 주요 장점과 단점은 무엇입니까? CVD는 가열 된 고체 기판에 화학적으로 반응하고 고체 필름으로 코팅하기 위해 하나 이상의 가스를 사용합니다. 장점 : 1. 진공도 요구 사항은 높지 않으며, 핫 스프레이 코팅과 같은 진공이 필요하지 않습니다. 2. 빠른 증착 속도, 대기 CVD는 1μm / min에 도달 할 수 있습니다. 3. PVD와 비교하십시오. 화학적 조성물 또는 합금 코팅이 쉽게 달성하기가 더 쉽습니다. 자세히보기 »
  • 02-10
    2022
    [뉴스] 희토류 나노 물질의 생산 기술
    현재, 나노 물질의 생산과 적용은 모든 국가의 관심을 끌고 있습니다. 중국의 나노 기술은 나노 수준의 SiO2, TiO2, Al2O3, ZnO2, Fe2O3 및 기타 분말 재료로 성공적인 산업 생산 또는 재판 생산 이었지만 기존 생산 공정, 높은 생산 비용은 치명적인 약점입니다. 나노 물질의 홍보와 적용이므로 계속해서 개선해야합니다. 자세히보기 »
  • 02-09
    2022
    [뉴스] 고순도 텅스텐 타겟 재료 (칩 제조)
    고순도 텅스텐 타겟은 반도체 장치에서 텅스텐 산화막의 전이를위한 중요한 기질입니다. 텅스텐의 높은 융점으로 인해 텅스텐 표적은 주로 분말 야금에 의해 준비됩니다. 제조 방법은 99.999 % 이상, 균일 한 혼합을위한 3.2 4.2μm 텅스텐 파우더의 입자 크기를 포함하고, 진공 열처리로에 배치 된 다음, 수소로, 난방 탈기 단계를 계속한다. 자세히보기 »
  • 02-08
    2022
    [뉴스] 다양한 분야의 나노 물질의 신청
    다양한 분야의 나노 물질의 적용 나노 물질은 체적 효과, 표면 효과, 양자 크기 효과, 거시적 인 양자 터널링 효과 등을 가지며, 이는 기존의 재료가 전기, 자기, 빛 및 다른 측면이없는 특성을 제공합니다. 과학자와 엔지니어는 나노 물질의 특별한 특성을 사용하여 많은 기술적 인 문제를 해결했습니다. 자세히보기 »
  • 02-07
    2022
    [뉴스] 실리콘 카바이드 (SiC) : 3 세대 반도체 재료
    설계 및 개발에 대한 실리콘 장치를 기반으로 많은 세대의 구조 및 공정 최적화 및 갱신을 거쳤습니다. 실리콘 장치의 성능을 향상시키는 잠재력을 바탕으로 실리콘 재료의 한계에 점차적으로 가깝습니다. 제 3 세대의 반도체의 대표자로서의 실리콘 카바이드는 전력 전자 장치의 성능을 더욱 향상시키기 위해 재료의 물질의 우수한 물리적 특성을 갖는 실리콘 카바이드가 더 큰 공간을 제공한다. 자세히보기 »
  • 02-04
    2022
    [뉴스] 희토류 수소 저장 재료가 새로운 기회를 안내합니다.
    기능성 물질의 희토류의 연구와 적용은 주로 희토류 나노 물질, 희토류 초경질 나노 물질, 희토류의 희토류의 작용 중합체, 희토류 기반 PVC 열 안정제 및 그 스모그 억제 성능 연구 및 준비 및 주로 수소 저장 재료 및 수소 에너지 용도 산업에 사용되는 희토류 나노 알로이 촉매의 성능. 자세히보기 »
  • 02-03
    2022
    [뉴스] 스퍼터링 타겟이란 무엇입니까?
    마그네트론 스퍼터링 코팅은 전자총 시스템을 사용하여 전자총 시스템을 사용하여 코팅 된 재료에 초점을 맞추기 위해 스퍼터링 원자가 높은 운동학을 가진 재료로부터 멀리 날아가는 모멘텀 변환 원리를 따르는 새로운 물리적 기상 코팅 방법입니다. 기판 증착 필름 에너지. 이 도금 재료를 스퍼터링 타겟이라고합니다. 자세히보기 »
  • 02-02
    2022
    [뉴스] 지르코늄 Diboride 세라믹 - 유틸리티 모델은 초 고온 구조 세라믹 재료와 관련이 있습니다.
    지르코늄 붕소는 붕화물의 공통적 물질이며, 붕소 - 지르코늄 시스템, 지르코늄 단일 보르화물 (Zrb), 지르코늄 디 붕소 (Zrb2) 및 지르코늄 12 붕 라이드 (Zrb12)에 3 종류의 지르코늄 지르 라이드가있다. 그러나, 넓은 온도 범위에서 지르코늄 디 붕화물의 우수한 안정성으로 인해, 지르코늄 붕화물의 산업 생산은 주요 성분으로서 대부분 지르코늄 디 비리화물이다. 자세히보기 »
  • 02-01
    2022
    [뉴스] 붕소 카바이드의 특성 및 화학적 특성
    Black Diamond라고도 알려진 붕소 카바이드는 유기농 형태입니다. 분자 형태는 BⅡC입니다. 일반적으로 칙칙한 검은 색 미분 ​​분말입니다. 그것은 알려진 3 가지 가장 어려운 재료 중 하나입니다 (다른 것들은 다이아몬드 및 입방 붕소 나이트 라이드)이며 많은 산업 응용 분야에서 사용됩니다. 그것은 9.3의 MOHS 경도를 가지고 있습니다. 붕소 카바이드의 특성과 화학적 특성은 무엇입니까? 자세히보기 »
  • 01-28
    2022
    [뉴스] 금속 분말의 성능에 3D 인쇄의 요구 사항은 무엇입니까?
    금속 분말은 3D 인쇄 자료의 요구 사항을 충족시키기 위해 어떤 조건을 충족해야합니까? 세라믹 개재물은 최종 생성물의 성능을 현저히 감소시킬 것이며, 이들들은 일반적으로 높은 융점을 가지며 소결하기 어렵 기 때문에 세라믹 개재물이 분말에 있어야합니다. 자세히보기 »

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