스퍼터링 타겟은 주로 집적 회로, 정보 저장, 액정 디스플레이, 레이저 메모리, 전자 제어 장치 등과 같은 전자 정보 산업에서 사용됩니다. 유리 코팅, 내마모성 재료, 고온 내식성, 고급 장식 제품 및 기타 산업. 본딩은 솔더로 백 타겟으로 타겟을 본딩하는 것을 말합니다. 자세히보기 »

세라믹 표적의 순도는 스퍼터링 필름의 성능에 큰 영향을 미칩니다. 순도가 높을수록 스퍼터링 필름의 균일 성과 배치 제품의 품질이 우수합니다. 또한 고성능 세라믹 표적을 준비하기 위해서는 주로 성형 방법, 원료 크기, 소결 효과를 포함하여 이러한 요소를 제어해야합니다. 오늘날 세라믹 표적의 성능에 영향을 미치는 주요 요인을 분석하는 것입니다. 자세히보기 »

표적 재료는 고속 충전 된 입자에 의해 포격 된 타겟 재료, 다른 레이저 (이온 빔) 및 상이한 멤브레인 시스템을 통해 상이한 멤브레인 시스템을 통해 다른 멤브레인 시스템을 얻는 재료로, 전도 및 차단 기능을 달성하기 위해 상이한 표적 물질 상호 작용을 사용하는 재료이다. ...에 따라서 대상은 \"스퍼터링 타겟 \"라고도합니다. 그의 작동 원리는 이온 소스에 의해 생성 된 이온을 사용하여 진공 상태에서 수집하고 가속화하는 것입니다. 자세히보기 »

마그네트론 스퍼터링 코팅은 전자총 시스템을 사용하여 전자총 시스템을 사용하여 코팅 된 재료에 초점을 맞추기 위해 스퍼터링 원자가 높은 운동학을 가진 재료로부터 멀리 날아가는 모멘텀 변환 원리를 따르는 새로운 물리적 기상 코팅 방법입니다. 기판 증착 필름 에너지. 이 도금 재료를 스퍼터링 타겟이라고합니다. 자세히보기 »

금속 표적 니켈, Ni, 티타늄, Ti, 아연, Zn, 크롬, Cr, 마그네슘, mg, 니오브, Nb, 주석, Sn, 알루미늄, Al, 인듐, zral, 철, Fe, 지르코늄, zral, 티타늄 알루미늄, Tial, 지르코늄, Zr, 알루미늄 - 실리콘, Alsi, 실리콘, Si, 구리, Cu, 탄탈륨, T, A, Ge, 실버 타겟, Ag 표적, 코발트 표적, Co 표적, 금 표적, Au 표적, Gadolinium 표적 자세히보기 »

Indium Tin Oxide Powder는 Indium Oxide와 Tin Oxide의 화합물이며 두 산화물의 혼합물이 아닙니다. 화학적 공침에 의해 만들어지며 투명 전도도와 적외선 반사가 뛰어납니다. 인듐 주석 산화물은 노란색 인듐 주석 산화물과 두 가지 유형의 색상이 있습니다. 자세히보기 »

중국 과학원 대련 화학 물리 연구소 (HEREINAFTER는 \"대련 화합물 연구소\")가 개발 한 마그네슘 해수 연료 전지 시스템이 수심 3,000m에서 해상 시험을 성공적으로 완료하여 최초의 실제 적용 자세히보기 »