스퍼터링 타겟은 주로 집적 회로, 정보 저장, 액정 디스플레이, 레이저 메모리, 전자 제어 장치 등과 같은 전자 정보 산업에서 사용됩니다. 유리 코팅, 내마모성 재료, 고온 내식성, 고급 장식 제품 및 기타 산업. 본딩은 솔더로 백 타겟으로 타겟을 본딩하는 것을 말합니다. 자세히보기 »

세라믹 표적의 순도는 스퍼터링 필름의 성능에 큰 영향을 미칩니다. 순도가 높을수록 스퍼터링 필름의 균일 성과 배치 제품의 품질이 우수합니다. 또한 고성능 세라믹 표적을 준비하기 위해서는 주로 성형 방법, 원료 크기, 소결 효과를 포함하여 이러한 요소를 제어해야합니다. 오늘날 세라믹 표적의 성능에 영향을 미치는 주요 요인을 분석하는 것입니다. 자세히보기 »

표적 재료는 고속 충전 된 입자에 의해 포격 된 타겟 재료, 다른 레이저 (이온 빔) 및 상이한 멤브레인 시스템을 통해 상이한 멤브레인 시스템을 통해 다른 멤브레인 시스템을 얻는 재료로, 전도 및 차단 기능을 달성하기 위해 상이한 표적 물질 상호 작용을 사용하는 재료이다. ...에 따라서 대상은 \"스퍼터링 타겟 \"라고도합니다. 그의 작동 원리는 이온 소스에 의해 생성 된 이온을 사용하여 진공 상태에서 수집하고 가속화하는 것입니다. 자세히보기 »

스퍼터링 타겟은 반도체의 수율을 결정하는 가장 중요한 요소입니다. 따라서 반도체 및 필요한 정밀도에 적용되며, 가장 높은 순도, 스퍼터링 타겟 재료의 순도 정도는 반도체의 성능에 직접적으로 영향을 미치고, 스퍼터링 대상 재료의 차이는 반도체 단락 회로를 일으켰다. 자세히보기 »

마그네트론 스퍼터링 코팅은 전자총 시스템을 사용하여 전자총 시스템을 사용하여 코팅 된 재료에 초점을 맞추기 위해 스퍼터링 원자가 높은 운동학을 가진 재료로부터 멀리 날아가는 모멘텀 변환 원리를 따르는 새로운 물리적 기상 코팅 방법입니다. 기판 증착 필름 에너지. 이 도금 재료를 스퍼터링 타겟이라고합니다. 자세히보기 »

금속 표적 니켈, Ni, 티타늄, Ti, 아연, Zn, 크롬, Cr, 마그네슘, mg, 니오브, Nb, 주석, Sn, 알루미늄, Al, 인듐, zral, 철, Fe, 지르코늄, zral, 티타늄 알루미늄, Tial, 지르코늄, Zr, 알루미늄 - 실리콘, Alsi, 실리콘, Si, 구리, Cu, 탄탈륨, T, A, Ge, 실버 타겟, Ag 표적, 코발트 표적, Co 표적, 금 표적, Au 표적, Gadolinium 표적 자세히보기 »

9 월 27 일 생태 환경부는 기후 변화 정책에 대한 설명회를 개최했다. 중국의 기후 변화 정책과 관련된 기본 입장, 생태 환경, 기후 변화 리 과장을 소개했다. 자세히보기 »

최근 휴대용 프리 탱크 과열도 실시간 측정기라고 불리는 일종의 전해 알루미늄 에너지 절약 인공물이 성공적으로 개발되었으며, 측정기는 원래 결정 온도 측정을 기반으로 Beijing Core Power Technology Co., Ltd.에서 개발되었습니다. 자세히보기 »

최근 세르비아 지진동이 'KuangGongJie'행사를 열었고 세르비아 광업 및 에너지 장관 antic이 행사에 참석하여 4 명의 직원에게 'Š isteck 엔지니어'상을 수여했습니다. Antic 장관은 2020 년 상반기 전염병 예방 및 공동 상황에서 자세히보기 »

Beidou-3을 탑재 한 Long March 3B 항공 모함 로켓이 성공적으로 발사 된 지 한 달 후, Long March 5 로켓이 7 월 23 일 오전 12시 41 분에 발사되어 중국에서 개발 한 화성 탐사선 Tianwen-1을 들어올 렸습니다. 중국 우주 강국의 교향곡 서곡 자세히보기 »