세라믹 타겟 - 그 유형은 무엇입니까?

고온 세라믹 재료의 유형은 무엇입니까?

응용 프로그램에 따르면, 그것은 반도체와 관련된 반도체로 나눌 수있다.세라믹 타겟, 디스플레이 세라믹 타겟, 자기 기록 세라믹 타겟, 광학 기록 세라믹 표적, 초전도 세라믹 표적, 거대한 자기 저항 세라믹 표적 등

반도체 연관 세라믹 타겟 재료 (HFO, SiO, Si3N4, MOSI, 슬리핑, WSI, TISI, PLZT, ITO가 주로 게이트 유전체 필름에 사용됩니다. 톤 필름, 확산 차단 필름, 커패시터 절연 필름, 투명 전도 막.

전계 발광 필름 발광 층, 전계 발광 필름 절연 층, 디스크 등에서 주로 사용되는 세라믹 표적 ZnS-Mn, ZnS-Tb, ZnS-SM, Cas-EU, SRS-CE, Si3N4, MgO

자기 기록 세라믹 타겟 Si3N4는 주로 자기 헤드, 자기 디스크 (Mo) 보호에 사용됩니다.

광학 기록 세라믹 레이크 Si3N4는 주로 광디스크 보호 필름에 사용됩니다.

초전도 세라믹 표적 YBACUO, BISRCACUO, 주로 초전도 필름에 사용됩니다.

거대한 자기 저항 세라믹 표적은 주로 박막 태양 전지 창문에서 사용됩니다.

다른 목표물, in�o, linbo₃, batio₃, pzt. ZnO, 주로 태양 전지, 압전 박막에 사용됩니다.

화학적 조성물에 따르면, 산화물 세라믹 표적, 실리사이드 세라믹 표적, 질화물 세라믹 표적, 불화물 세라믹 표적 및 황화물 세라믹 표적 등으로 나눌 수있다. 평면 디스플레이 ITO 세라믹 표적은 널리 생산되고 중국에서 적용되었다. 고전 유전체 절연 필름 및 거대한 자기 저항을위한 세라믹 표적은 광범위한 적용 전망을 갖는다.