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제품 [복사] [복사]
고순도 무기 화학 분말
순수 금속 재료, 희토류 재료, 칼 코겐화물 재료, 할라이드,
탄화물 및 질화물, 붕화물, 실리사이드, 3D 인쇄 구형 분말 및 기타 재료.
바륨 금속 (Ba) - 초본 표적
0
0
크롬 금속(Cr)-스퍼터링 타겟
0
0
실리콘(Si)-스프레이 회전식 스퍼터링 타겟
0
0
실리콘(Si)-스퍼터링 타겟
0
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로듐 금속 (Rh) - 초본 표적
0
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백금 금속 (Pt) - 초본 표적
0
0
니오브 산화물 (NbOx) - 프레이 로터리 스퍼터링 타겟
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티타늄 산화물 (TiOx) - 프레이 로터리 스퍼터링 타겟
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비스무트 금속 (Bi) - 초본 대상
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니켈 금속 (Ni) - 델라 표적
0
0
망간 금속 (Mn) - 초본 표적
0
0
탄탈 금속 (Ta) - 초본 대상
0
0
레늄 금속 (Re) - 초본 표적
0
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리드 금속 (Pb) - 초본 대상
0
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세륨 금속 (Ce) - 초본 대상
0
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루테튬 금속 (Lu) - 초본 표적
0
0
툴륨 금속 (TM) - 초본 대상
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텔루르 금속 (Te) - 초본 표적
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주석 금속 (Sn) - 초본 대상
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인듐 금속 (In) - 초본 표적
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박막 코팅 재료 유닛
산화물 및 수산화물
할라이드
붕소화물
산화물 및 수산화물
산화철(Fe3O4)-펠렛
레늄 산화물(Re2O7)-분말
산화크롬(Cr2O3)-펠렛
산화크롬(Cr2O3)-스퍼터링 타겟
산화크롬(Cr2O3)-분말
산화제2철(Fe2O3)-분말
산화티타늄(Ti4O7)-펠렛
이산화티타늄(TiO2)-펠렛
삼산화이티타늄(Ti2O3)-분말
니켈(II) 수산화물(Ni(OH)2)-분말
산화안티몬(Sb2O3)-분말
산화알루미늄(Al2O3)-스퍼터링 타겟
산화아연(ZnO)-분말
이산화망간(MnO2)-분말
산화 몰리브덴(MoO3)-분말
수산화알루미늄(Al(OH)3)-분말
인듐 주석 산화물(In2O3-SnO2(90:10 wt%))-분말
주석 산화물(SnO2)-분말
산화니켈(NiO)-분말
수산화마그네슘(Mg(OH)2)-분말
할라이드
염화리튬(LiCl)-분말
염화납(PbCl2)-분말
망간(II) 염화물 사수화물(MnCl2·4H2O)-결정
염화니오븀(NbCl5)-분말
텅스텐(Ⅵ) 염화물(WCl6)-분말
구리 요오드화물(CuI)-분말
니켈(II) 염화물 수화물(NiCl2·6H2O)-분말
요오드화칼륨(KI)-분말
염화칼슘(CaCl2)-분말
불화칼슘(CaF2)-분말
염화세슘(CsCl)-분말
염화마그네슘(MgCl2)-분말
염화나트륨(NaCl)-결정
바나듐 브로마이드 (VBr3) - 폴더
크롬 (II) 염화물 (CrCl2) - 입술
TiN 요오드화 (SnI2) - 파우더
티타늄 (IV) 불화물 (TiF4) - 폴더
나트륨 플루오 라이드 (NaF) - 파우더
망간 요오드화물 (MnI2) - 파우더
납 불화물 (PbF2) - 펠렛
붕소화물
코발트 붕화물(CoB)-분말
텅스텐 루이드 (WB) - 폴더
마그네슘 붕사 (MgB2) - 초본 표적
마그네슘 붕사 (MgB2) - 파우더
니켈 보 라이드 (Ni2B) - 폴더
코발트 철 붕소 (CoFeB (40:40:20 at %)) - 스퍼터링 대상
코발트 실리콘 붕소 (CoSiB) - 초본 대상
철 실리콘 붕소 (FeSiB) - 초본 대상
망간 보리 라이드 (MnB2) - 폴더
크롬 보 라이드 (Cr2B) - 폴더
크롬 디 븀 (CrB2) - 초본 표적
바나듐 붕사 (VB2) - 파우더
바나듐 붕 바 라이드 (VB2) - 초본 표적
티타늄 붕사 (TiB2) - 초본 표적
티타늄 붕사 (TiB2) - 알파
칼슘 보 라이드 (CaB6) - 파우더
스칸듐 붕화물(ScB12)-분말
Niobium Diboride (NbB2) - 폴더
니켈 루이드 (Ni2B) - 초본 표적
코발트 철 실리콘 루이드 (CoFeSiB （8 : 70 : 12 : 10 At %）) - 스퍼터링 대상
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금속 합금 스퍼터링 타겟
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